小试中试研发专用｜无氧真空表面处理工作站 ≤10ppm 零氧化

核心技术参数：

Ø 品牌：华林科纳

Ø 制造商：华林科纳（江苏）半导体设备有限公司

Ø 产品型号：CSE-HLKN2604-002

Ø 氧含量控制：≤10ppm，实时监测，达标语音播报

Ø 真空度：-0.1MPa 高真空，稳定可靠

Ø 工作槽体：1# 真空腐蚀槽 + 2# 超净水洗槽

Ø 腐蚀槽材质：PVDF/PTFE，耐强酸强碱（HF、HCL 等）

Ø 水洗槽材质：PP + 石英槽底，洁净度更高

Ø 辅助功能：槽口充氮隔污、加热温控、40KHz 超声波（可选）

Ø 环境控制：温湿度实时监测、防结露、百级洁净区域

Ø 操作方式：AI 语音控制、无接触操作、安全互锁

Ø 设备尺寸：1800mm×1000mm×1800mm

Ø 安全配置：漏液报警、三色灯、底部缓存、压差监控

核心功能特点：

Ø 极致无氧，从源头杜绝氧化报废采用顶部多级密孔层流板垂直下压式氮气循环，持续快速置换内部空气，氧含量稳定控制在 10ppm 以内。上料 — 腐蚀 — 水洗 — 下料全程无氧流转，样品几乎不接触空气，氧化时间趋近于零。槽口持续 4L/min 防污氮气保护，工艺后仍保持洁净隔氧，彻底解决高价值样品氧化报废问题。

Ø 真空双槽工艺，腐蚀更均匀、清洗更彻底真空腐蚀槽在 - 0.1MPa 负压下作业，可快速排出气泡与废气，让药液与材料表面充分均匀接触，大幅提升腐蚀均匀性，无挂液、无残渍、无边缘效应。超净水洗槽支持溢流、喷淋、超声波组合清洗，强力去除微粒与残留，满足半导体、医疗、光学器件的超洁净要求。

Ø 全密封洁净设计，样品零污染手套箱式密闭操作，人与样品完全隔离，避免交叉污染。上下料传递箱自带自动风淋与氮气置换，入料不破坏内部低氧与洁净环境。整机使用高等级防腐 PP 与 PVDF 材质，不析出、不污染、使用寿命长、维护成本低。

Ø 多重安全保障，车间零风险双重密封结构配合氮气保护，实现有毒气体零外泄。漏液语音报警、三色灯状态提示、底部防扩散缓存箱三重防护，最大限度避免药液泄漏、腐蚀、安全事故。安全互锁机制确保氧含量不达标无法启动工艺，从机制上杜绝误操作。

Ø AI 语音智能，洁净室更易用专为洁净室手套操作设计，支持无接触语音控制，可直接操控充氮、排风、照明、监测等功能。设备异常、氧含量超标、漏液、故障等信息全语音实时播报。支持压差监控、数据记录、远程联控，便于研发过程管理与数据追溯。

Ø 模块化紧凑设计，全场景适配标准尺寸适合研发室、小试线、中试车间摆放，不占空间。腐蚀、水洗、传递等模块可灵活组合，快速适配不同材料与工艺。一机多用，大幅减少设备投入与场地占用，提升研发效率。  

适用场景：

Ø 半导体与第三代半导体：SiC、GaN、晶圆、芯片、功率器件、光电器件的无氧腐蚀、刻蚀、清洗，解决高温易氧化、高价值易报废问题，提升良率与器件性能。

Ø 光学与玻璃加工：光学晶体、透镜、显示玻璃、微流控芯片、高精度光学元件的无氧表面处理，保证透光率、面型精度与表面洁净度。

Ø 医疗植入与生物材料：骨科植入体、介入器械、生物传感器等表面活化、去氧化、超洁净处理，满足生物相容性与无菌洁净要求。

Ø 光电子与显示器件：Mini/Micro LED、OLED、芯片级光电器件的无氧刻蚀与防氧化清洗，提升亮度、均匀性与寿命。

Ø 新能源材料：光伏硅片、锂电材料、燃料电池部件的表面改性、腐蚀、清洗，提升转换效率与稳定性。

Ø  科研院所与高校实验室：新材料开发、工艺机理研究、样品制备、小试验证、工艺参数优化、专利实验支撑等。

Ø 企业研发中心与中试线：新工艺开发、样品打样、可靠性测试、良率提升、量产前工艺定型。

推荐厂家：华林科纳

华林科纳是老牌湿法设备厂家，拥有30年行业经验，业务始于上世纪 90 年代末，是国内最早布局半导体湿法工艺装备的企业之一，累计交付各类湿法设备超3000 台套，服务数千家半导体、光学、医疗、新能源、科研院所客户，是国产湿法设备领域公认的标杆品牌与核心供应商。

依托三十年行业沉淀、≤10ppm 极致无氧技术、真空双槽成熟方案、半导体级安全洁净设计、一站式专业服务，成为高精度表面处理的最优解决方案。

若您正遭遇氧化报废、腐蚀不均、颗粒污染超标、结露水痕、设备安全隐患等湿法工艺痛点，选华林科纳，就是选稳定、选可靠、选高效研发保障。助力实验小试顺畅推进、中试稳定落地，全程护航研发项目一次成功！