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第二届华林科纳泛半导体湿法培训会成功举办
3月20日，第二届华林科纳泛半导体湿法培训会在华林科纳（江苏）半导体设备有限公司成功举办。这届培训会以“以声共汇平台，以友共筑数据”的主题面向芯片设计、晶圆制造、封装测试、材料和设备以及下游应用产业链多个群体。培训会进一步聚焦泛半导体湿法行...
华林科纳湿电子化学品工作站为湿法制程研究保驾护航！
随着我国各行业对芯片需求的日益增长，这类型仪器购买量日益增加。然而市场上湿法制程相关设备基本以非标定制为主，设备体型大，交付时间长、造价高昂，往往忽略了实验室对场地、成本控制的要求。
化学流体技术与应用交流会（流体组件展厅预告）
华林科纳将于5月18日-5月19日举办“泛半导体化学流体系统技术及应用”交流会。届时针对相关内容进行分享与交流，对流体系统组件应用进行实操，分享实践经验，做到无死角、无盲区的交流。本次交流会将成为集中展示和研究流体系统发展的一次盛会，我们诚...
泛半导体湿法工艺装备服务平台
华林科纳始于上世纪九十年代，“深耕”半导体湿法领域三十年，专注于泛半导体湿制程装备和氟塑料流体产品的研发与生产，是湿法垂直领域引领型高科技企业。华林科纳现面向上下游的泛半导体湿法工艺装备及部件企业，建立服务平台----共享湿法数据，服务新品...
华林科纳携湿法垂直领域平台与您相见SEMICON China 2023
国内半导体产业的行业盛会将在上海如期举行，华林科纳将为您带来超全面且领先的湿法解决方案，并携泛半导体湿法装备服务平台亮相SEMICON China，与上下游企业进行一对一交流，为企业发展瓶颈找到“痛点”根源，并提出合理可行的解决方案。展会信...
泛半导体湿法装备服务平台小程序即将上线
华林科纳始于上世纪九十年代，“深耕”半导体湿法领域近三十年，专注于泛半导体湿制程装备和氟塑料流体产品的研发与生产，是湿法垂直领域引领型高科技企业。近年来，华林科纳为更好的服务半导体行业、促进上下游产业链之间的交流与合作，一直致力于建立湿法垂...
湿法专家
半导体专家
KOH硅湿化学刻蚀
氢氧化钾(KOH)是一种用于各向异性湿法蚀刻技术的碱金属氢氧化物，是用于微加工硅片的最常用的硅蚀刻化学物质之一。各向异性蚀刻优先侵蚀基底。也就是说，它们在某些方向上的蚀刻速率比在其他方向上的蚀刻速率高，而各向同性蚀刻(如高频)会在所有方向上...
湿法化学蚀刻硅太阳能电池的光电特性
通过在含有H2O2的HF溶液中蚀刻，在两步工艺中对商用硅太阳能电池进行纹理化。银纳米粒子作为催化位点，有助于蚀刻过程。确定了在表面制备纳米孔的蚀刻时间。利用光谱仪测量了硅太阳能电池表面纳米结构的光学特性。样品的全反射系数低于未经处理的硅太阳...
氧化锌半导体在酸溶液中湿性能的研究
近年来，氧化锌薄膜因其低成本、低光敏性、无环境问题、特别是高迁移率而被研究作为薄膜晶体管中的有源层来代替非晶硅。此外，氧化锌的低温制造使得在塑料薄膜上制造成为可能。氧化锌(ZnO)半导体由于在低沉积温度下具有高电子迁移率，非常适用于柔性显示...