在半导体先进制程持续向纳米级突破的当下,湿法刻蚀与清洗作为芯片制造的核心环节,对化学品供应的纯度、精度、稳定性与安全性提出近乎严苛的要求。作为国内最早深耕湿法制程的整体解决方案提供商,华林科纳(CSE)立足三十年行业积淀,聚焦产业痛点,推出CSE-CDS/SDS 系列中央化学品自动供液系统(Chemical Dispense System/Slurry Delivery System),以国产化高端装备打破海外技术垄断,为集成电路、LED、光伏、MEMS 等泛半导体领域构建安全、高效、精准的化学品输送 “生命线”。

华林科纳 CDS/SDS 设备是集高纯度材质、精密控制、全维安全、数据化运维于一体的智能化化学品供液解决方案,核心参数全面对标国际标准,既能实现 24 小时不间断、零污染、高精度的化学品输送,又凭借国产化优势带来更高性价比与更优服务,是当前泛半导体产业提升良率、降低成本、保障安全的最优选择。
技术优势:
1. 高纯度材质架构,采用全封闭结构。结构由不锈钢 SUS 方管骨架(40×40×3T),外部包覆耐酸碱腐蚀的PP(聚丙烯) 10T 厚板材,抗静电脚轮(单柜荷重承载≥500kg),底部集成防漏液托盘与漏液 Sensor 检测模块。
2. 精密控制体系:数据化闭环,实现 ppm 级供液精准度。CSE-CDS/SDS 系统搭载PLC+10 英寸 Proface 工业触摸屏的智能控制单元,融合多维度传感监测与闭环算法,实现供液全参数实时调控
3. 针对强酸、强碱、有机溶剂等高危化学品特性,CSE-CDS/SDS 构建多级安全防护网络,所有安全指标符合 GB 50781-2012《电子工厂化学品系统工程技术规范》,有泄漏检测,压力检测、防腐保护,报警系统
4. 赋能先进制程,降本增效显著,·24 小时连续运行无故障时间≥99.95%,满足 Fab 厂不间断生产需求;
产业价值:
1) 良率突破:稳定的供液精度与零污染输送,有效减少晶圆杂质污染、刻蚀不均等问题,助力先进制程良率提升 5% 以上。
2) 成本突破:设备采购价较进口品牌低 40%,全生命周期成本降低 50% 以上,常规型号现货供应,交期远短于进口设备 4-8 周周期,大幅缓解企业资金与产能压力。
3) 安全突破:本地化技术团队提供 7×24 小时响应服务,备件覆盖率 100%,定制化开发周期从 12 周缩短至 3 周,彻底解决海外品牌售后滞后、技术适配难的痛点。
应用场景:全领域覆盖,适配多元需求
华林科纳 CDS/SDS 设备广泛应用于:
Ø 集成电路制造:8/12 英寸晶圆厂湿法刻蚀、清洗、显影等工序的化学品集中供液;
Ø 光电子与功率器件:LED、MEMS、分立器件的高纯药液输送;
Ø 光伏与先进封装:太阳能电池片、晶圆凸点工艺的精准配液与供液;
Ø 电子特种化工:高纯化学品的生产、储存与输送环节
落地实践:标杆案例,验证实力
目前,华林科纳 CDS/SDS 设备已成功应用于国内多家头部半导体、光伏企业产线,累计交付数百台套设备,运行时长超 10 万小时无重大故障。以某 12 英寸晶圆厂为例,引入 CDS 系统后,化学品供液精度稳定控制在 ±1%,产线停机率降低 60%,成为国产高端供液设备的标杆案例。
未来方向:持续创新,引领自主
面向先进工艺趋势,华林科纳正持续迭代 CDS/SDS 技术,研发超纯、超精密、模块化的新一代供液系统,进一步提升智能化、集成化水平。未来,华林科纳将继续深耕湿制程领域,以 CDS/SDS 设备为核心,联动清洗、刻蚀系统,打造全流程国产化解决方案,助力中国半导体产业实现从 “设备自主” 到 “技术引领” 的跨越。
结语
在半导体产业国产化的浪潮中,华林科纳将始终坚守初心,以技术创新赋能产业,以优质装备守护制造,与行业伙伴携手,共绘中国半导体产业高质量发展的宏伟蓝图。
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