半导体行业分析 - SRD甩干机

关键字:半导体,甩干机,SRD甩干机 时间:2026-08-03 09:43:18 浏览量:0
半导体甩干机(行业标准名称 Spin Rinse Dryer,简称 SRD),是半导体湿法清洗工艺末端的专用干燥设备,覆盖晶圆刻蚀薄膜沉积、离子注入、CMP 抛光等全流程上百次清洗工序晶圆清洗后若干燥不彻底,会产生水痕、纳米颗粒残留、金属离子污染,直接造成芯片短路、漏电、良率暴跌。

华林科纳甩干机

华林科纳甩干机

一、全球与国内SRD甩干机市场

Ø 细分 SRD 旋转甩干机:2025 年全球市场规模 3.928 亿美元,2026 年 4.0847 亿美元,2030 年达 5.3106 亿美元;亚太地区为全球最大市场,2025 年亚太 SRD 市场规模 2.0845 亿美元

Ø 2024 年国内晶圆甩干机市场 38.6 亿元,同比增长 19.3%;2025 年市场规模 48.6 亿元,同比增速 22%,增速高于全球平均 14.3%,核心增量来自国内 12 英寸晶圆产能扩张;

Ø 2025 年国内新建 12 英寸晶圆厂中,双腔 SRD 甩干机国产化率 63.4%,较 2024 年 51.7% 提升 11.7 个百分点

二、双腔SRD主流技术参数

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三、行业未来增长预测数据(2026–2030)

Ø 全球 SRD 甩干机市场:2030 年规模 5.31 亿美元,2026–2030 年 CAGR 6.8%;

Ø 中国本土市场:2030 年国内晶圆甩干机市场规模预计突破 92 亿元,2025–2030 年复合增速 13.6%,增速持续高于全球;

Ø 国产替代空间:2030 年国内甩干设备综合国产化率目标突破 75%,其中 8 英寸成熟制程国产化率有望达到 90%;

Ø 下游产能支撑:SEMI 预测,2026–2028 年中国大陆新增 12 英寸晶圆月产能合计超 85 万片,将持续带来每年 12–15 亿元甩干设备新增采购需求;存储芯片、AI 算力芯片产能扩张将成为核心需求增长点。

 

四、小结

SRD 晶圆甩干机是半导体湿法清洗链路不可或缺的关键设备,全球与国内市场长期保持稳定增长态势。随着国内设备企业技术持续突破,双腔 SRD 设备国产化率已突破 63%,成熟制程产线国产设备渗透率超 80%。


以华林科纳为代表的本土 SRD 设备厂商,依托三十年湿法设备研发沉淀,设备各项工艺、洁净度、可靠性指标全面对标国际高端机型,同时具备采购成本更低、本地化维保响应更快、定制化工艺开发灵活等核心优势,成为国内晶圆厂国产替代选型核心选择。