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砷化镓材料国内市场供应现状及主要需求
1.国内砷化镓材料发展现状目前中国的砷化镓材料生产企业主要以LED用低阻砷化镓晶片为代表的低端市场为主，利润率较高的微电子用4-6英寸半绝缘晶片还没有形成产业规模。中国大陆从事砷化镓材料研发与生产的公司主要有：北京通美晶体技术有限公司（AX...
GaAs在酸性和碱性溶液中的湿蚀刻
摘要本文用同步光电发射光谱法研究了无氧化物砷化镓表面与酸性(盐酸+2-丙醇)和碱性(氨水）溶液的相互作用。结果表明，两种溶液主要处理表面镓原子，分别形成弱可溶性氯化镓和可溶性氢化镓。因此，表面的Ga-As键断裂，元素砷留在砷化镓表面。此外，...
在HF溶液中蚀刻期间GaAs上的砷形成
到目前为止，GaAs晶片的直接再利用受到晶片表面上的残留物的限制，这些残留物不能利用一般的清洗方法方式去除。因此，用显微技术、轮廓术和x光电子能谱研究了氢氟酸对GaAs晶片的腐蚀。发现在蚀刻之后，晶片表面立即被元素碑的棕色层覆盖。该层的厚度...
砷化镓晶片的湿式化学蚀刻
引言外延片或所谓的外延片是一种通过外延生长生产的材料，商业上可用于许多不同的电子应用。外延晶片可以由单一材料(单晶晶片)和/或多种材料(异质晶片)制成。可用作衬底的“外延”晶片的选择有限，例如硅、氮化镓(GaN)、砷化镓(GaAs)、镓、铟...
衬底通孔蚀刻和清洗
通过使用多级等离子体蚀刻实验设计、用于蚀刻后光致抗蚀剂去除的替代方法，以及开发自动蚀刻后遮盖物去除顺序；一种可再现的基板通孔处理方法被集成到大批量GaAs制造中。对于等离子体蚀刻部分，使用光学显微镜和扫描电子显微镜(SEM)来确定缺陷密度和...
GaAs 晶圆在 5G 中的作用
GaAs晶圆拥有强大的性能特性，使其成为快速发展的技术世界的理想选择，这些半导体正在推动移动通信的未来，所以移动设备需要足够坚固的半导体来承受快速的电子传输速度，但由于电子移动速度加快，所以GaAs晶圆为移动设备开启了改进的功能。 5G是...
砷化镓中光学电子的自旋扩散
An experimental and theoretical study of spin transport in the n-GaAs semiconductor is reported. Transport of average el...
砷化镓功率异质结双极晶体管
Abstract We demonstrate the results of two-dimensional (2-D)hydrodynamic simulations of one-finger power heterojunctionb...
光伏应用的砷化镓径向结构
Gallium arsenide p-i-n radial junctions were fabricated by molecular beam epitaxy. The current-voltagccharacteristics of...
硫酸-过氧化氢-水系统中砷化镓的化学蚀刻
1. Introduction Investigation of the chemical etching of (100) GaAs in a solution consisting of sulphuric acid, hydroge...