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强化化学清洗工艺的处理槽腐蚀研究
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选择性湿蚀刻和腐蚀工艺的基础研究
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半导体资料丨颗粒、表面清洗工艺、熔融石英玻璃、硅腐蚀
半导体应用中颗粒形成、传输、沉积和过滤的基础研究 在半导体制造过程中，防止和控制颗粒污染是提高半导体产率的关键。为了控制和减少半导体制造过程中的纳米颗粒污染，应该同时研究颗粒的形成、输运、沉积和过滤。本文研究的目的是1)证明无颗粒环境中的颗...
基于金属电化学腐蚀的单晶SiC Si面腐蚀磨损性能
Abstract Herein, we proposed a chemical mechanical polishing method for single-crystal SiC based on metal electrochemica...