IMEC Clean

在湿法清洗中,为了减少化学品和DI水的消耗量,常采用IMEC清洗法。第一步,去除有机污染物,生成一薄层化学氧化物以便有效去除颗粒。通常采用硫酸混合物,但出于环保方面的考虑而采用臭氧化的DI水,既减少了化学品和DI水的消耗量又避免了硫酸浴后较困难的冲洗步骤。第二步则采用最佳化的氢氟酸及盐酸混合稀释液,可以在去除氧化层和颗粒的同时,抑制Cu、Ag等金属离子的沉积。第三步,在硅表面产生亲水性,以保证干燥时不产生干燥斑点或水印。IMEC清洗法可达到很低的金属污染,并以其低化学品消耗及无印迹的优势获得较好的成本效率。

专家团队

行业专家

详情请点击

MEMS专家

详情请点击

工艺专家

详情请点击

湿法专家

详情请点击